ABB CI627A 不用光刻机，如何制造5nm芯片？

纳米压印的原理呢，和它差不多，只不过是迷你微缩版。  制造的过程统共就分两步，一步造 “ 印章 ” ，一步 “ 盖章 ” 。 

 先在刻好电路的底板上喷涂印章所需的材料，等凝固后就是纳米压印的印章。  然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章、等待凝固、脱模就 OK 了。在造印章、盖章的过程中，都不用替换工具，一个 “ 喷头 ” 就能搞定，期间只需要更换里面的材料。

而隔壁需要折来折去的 EUV 光刻技术，不仅要一个庞大的透镜阵列来控制光线，并且要产生这个波长极短的极紫外光，还得大功率支撑着。

而且如今，纳米压印技术也已经发展出了不少分支，光是压印方式就有三种：热压印、紫外压印和微接触压印，其中紫外压印常用在芯片制造中，在紫外光的照射下，压印胶很容易凝固脱模。

根据固化方式、压印面积等分类也衍生出了很多不同的工艺。

这些工艺，除了造芯片之外，还能用在 LED 、 OLED 、 AR 设备中。